Diplomová práce se především zabývá využitím plazmatu v technologických aplikacích. Úvodní část je věnována teoretickému popisu surfatronem generovaného plazmatu. Tento zdroj pracuje s frekvencí 2,45 GHz a je schopen vybudit povrchovou vlnu, která udržuje sloupec plazmatu hořící v křemenné trubici. Surfatronem generované plazma bylo užito k modifikaci povrchových vlastností polyethylenu za účelem změny jeho povrchové energie. Změnou povrchové energie bylo dosaženo vyšší hydrofilnosti. Plazma generované surfatronem bylo v průběhu práce podrobně diagnostikováno v pulzním i kontinuálním režimu pomocí jedno-sondových a dvou-sondových Langmuirovskych měření. V práci je diskutován vliv tlaku, výkonu a dalších experimentálních podmínek.
Anotace v angličtině
This diploma thesis deals mainly with utilization of plasma in technological aplications. The introductory part is apllied to the theoretical description of plasma generated by the surfatron. This launcher works with the frequency of 2,45 GHz and it is able to excite the surface wave, that sustains plasma column in a quartz tube. Plasma generated by surfatron was used for modification of surface properties of polyethylen to change its surface energy. By changing of surface energy it was reached of higher hydrophilicity. Plasma generated by surfatron was diagnosed in detail during experiments in a continual regime as well as in a pulse one with a help of a single - probe and a double - probe Langmuir measurement. In this diploma thesis there is discussed influence of pressure, power and other experimental options.
Diplomová práce se především zabývá využitím plazmatu v technologických aplikacích. Úvodní část je věnována teoretickému popisu surfatronem generovaného plazmatu. Tento zdroj pracuje s frekvencí 2,45 GHz a je schopen vybudit povrchovou vlnu, která udržuje sloupec plazmatu hořící v křemenné trubici. Surfatronem generované plazma bylo užito k modifikaci povrchových vlastností polyethylenu za účelem změny jeho povrchové energie. Změnou povrchové energie bylo dosaženo vyšší hydrofilnosti. Plazma generované surfatronem bylo v průběhu práce podrobně diagnostikováno v pulzním i kontinuálním režimu pomocí jedno-sondových a dvou-sondových Langmuirovskych měření. V práci je diskutován vliv tlaku, výkonu a dalších experimentálních podmínek.
Anotace v angličtině
This diploma thesis deals mainly with utilization of plasma in technological aplications. The introductory part is apllied to the theoretical description of plasma generated by the surfatron. This launcher works with the frequency of 2,45 GHz and it is able to excite the surface wave, that sustains plasma column in a quartz tube. Plasma generated by surfatron was used for modification of surface properties of polyethylen to change its surface energy. By changing of surface energy it was reached of higher hydrophilicity. Plasma generated by surfatron was diagnosed in detail during experiments in a continual regime as well as in a pulse one with a help of a single - probe and a double - probe Langmuir measurement. In this diploma thesis there is discussed influence of pressure, power and other experimental options.
Diplomová práce se zabývá diagnostikou plazmatu (Langmuirovská měření, interpretace optické emisní spektroskopie) generovaného surfatronem při frekvenci 2.45 GHz za různých experimentálních podmínek (tlak v recipientu, absorbovaný výkon, pracovní plyn, směsi pracovních plynů, atd.). Účelem práce je nalezení optimálních parametrů pro technologické aplikace plazmatu. Těmi se rozumí opracovaní povrchů materiálů (plasma treatment) a sterilizační procesy. Předpokládá se aktivní přístup diplomanta při práci v laboratoři (experimenty, konstrukce zdroje, analýza vzorků atd.).\\
předpokládaná osnova:\\
úvod - cíle práce a důvody\\
plazma, studovaný zdroj plazmatu\\
přehled výsledků a jejich diskuse\\
výsledky aplikace plazmatu\\
závěr\\
Zásady pro vypracování
Diplomová práce se zabývá diagnostikou plazmatu (Langmuirovská měření, interpretace optické emisní spektroskopie) generovaného surfatronem při frekvenci 2.45 GHz za různých experimentálních podmínek (tlak v recipientu, absorbovaný výkon, pracovní plyn, směsi pracovních plynů, atd.). Účelem práce je nalezení optimálních parametrů pro technologické aplikace plazmatu. Těmi se rozumí opracovaní povrchů materiálů (plasma treatment) a sterilizační procesy. Předpokládá se aktivní přístup diplomanta při práci v laboratoři (experimenty, konstrukce zdroje, analýza vzorků atd.).\\
předpokládaná osnova:\\
úvod - cíle práce a důvody\\
plazma, studovaný zdroj plazmatu\\
přehled výsledků a jejich diskuse\\
výsledky aplikace plazmatu\\
závěr\\
Seznam doporučené literatury
M. Moisan, J. Pelletier, Microwave excited plasmas, Elsevier, Amsterdam 1999.\\
A. Ricard, Reactive Plasmas, Societe Francaise du Vide, Paris 1996.\\
Hippler et al, Low temperature plasma physics, Wiley-Vch, Berlin 2001.\\
S. Moreau, M. Moisan, M. Tabrizian, et al., J. Appl. Phys., 88 (2000) 1166-1174.\\
M. Moisan, J. Barbeau, M.-C. Crevier, J. Pelletier, N. Philip, B. Saudi, Pure Appl. Chem., 74 (2002) 349-358\\
M. Moisan, J. Barbeau, J. Pelletier, Sci. Tech. Appl. 299 (2001), 15-28.\\
K. Kelly-Wintenberg, A. Hodge, T. C. Montie, L. Deleanu et al., J. Vac. Sci. Technol. A 17 1539.\\
V. Straňák, Z. Navrátil, P. Slavíček, P. Adámek, et. al., Czech. J. Phys. Vol. 54 (2004),
Suppl. C.\\
Chen, F.F.: Úvod do fyziky plazmatu.Academia, Praha 1984.\\
Krejčí, V.: Plazma, čtvrté skupenství hmoty. Orbis, Praha 1974.\\
Kracík, J., Tobiáš, J.: Fyzika plazmatu. Academia, Praha 1966.\\
Stach, V.: Plazma - čtvrté skupenství hmoty. SPN, Praha 1979.\\
Seznam doporučené literatury
M. Moisan, J. Pelletier, Microwave excited plasmas, Elsevier, Amsterdam 1999.\\
A. Ricard, Reactive Plasmas, Societe Francaise du Vide, Paris 1996.\\
Hippler et al, Low temperature plasma physics, Wiley-Vch, Berlin 2001.\\
S. Moreau, M. Moisan, M. Tabrizian, et al., J. Appl. Phys., 88 (2000) 1166-1174.\\
M. Moisan, J. Barbeau, M.-C. Crevier, J. Pelletier, N. Philip, B. Saudi, Pure Appl. Chem., 74 (2002) 349-358\\
M. Moisan, J. Barbeau, J. Pelletier, Sci. Tech. Appl. 299 (2001), 15-28.\\
K. Kelly-Wintenberg, A. Hodge, T. C. Montie, L. Deleanu et al., J. Vac. Sci. Technol. A 17 1539.\\
V. Straňák, Z. Navrátil, P. Slavíček, P. Adámek, et. al., Czech. J. Phys. Vol. 54 (2004),
Suppl. C.\\
Chen, F.F.: Úvod do fyziky plazmatu.Academia, Praha 1984.\\
Krejčí, V.: Plazma, čtvrté skupenství hmoty. Orbis, Praha 1974.\\
Kracík, J., Tobiáš, J.: Fyzika plazmatu. Academia, Praha 1966.\\
Stach, V.: Plazma - čtvrté skupenství hmoty. SPN, Praha 1979.\\